溅射

1.低溅射功率下，与键角畸变有关的结构无序是导致光学带隙变窄的主要因素。

2.因为先被切开的切口处会因为血压的关系溅射出血液,这也是喷溅型血渍的成因。

3.在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

4.所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。

5.采用磁控溅射方法制备金属锑薄膜，并把它作为锂离子二次电池负极进行研究。

6.溅射原子发射的角分布概率和溅射花样与高能溅射相类似。

7.采用氢离子溅射和X射线光电子能谱相结合的方法，检测焦磷酸盐镀铜层和铁基体界面区含氧量的变化，证明了氧化层的存在。

8.分析了氘饱和状态下液态锂作为包层流动液帘表面的溅射问题，得到了氘饱和状态下液态和固态锂的溅射产额。

9.应用TRIM程序模拟了离子在氚钛靶上的溅射产额。

10.通过磁控反应溅射，在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜。

11.并且随着阴极温度升高,阴极溅射率也随之增加.

12.首先提出真空管道自体真空镀膜新概念，采用特殊的阴极靶结构设计成功的解决了长管道内表面直流溅射镀膜的难题。

13.采用射频溅射制备BST薄膜，研究了薄膜的介电击穿特性。

14.利用磁控射频溅射技术制备了ITO薄膜。

15.在不同的衬底温度下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

16.用射频反应溅射法制备出BCN薄膜。

17.方法：用电子束蒸发和射频磁控溅射两种技术制备了天然HA薄膜。

18.在不同条件下用射频溅射方法制备了氮化碳薄膜。

19.这是溅射离子簇质谱中继“幻数”结构的另一个重要性质。

20.介绍一种大功率直流溅射恒流电源的设计。